ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД»
комплексное оснащение предприятий

+ 7 495 564-82-37

info@eav.su
Отправить запрос на оборудование

Технологическое оборудование

Системы безмаскового совмещения и экспонирования (MLA - Maskless Aligners) Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) для прямого экспонирования и высокоточного совмещения без использования масок (фотошаблонов).

logo_slogan_kombi_6000.jpg

Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) представила новую линейку установок для безмаскового совмещения и экспонирования (MLA - Maskless Aligners) .

Установки бесмаскового совмещения и экспонирования серии MLA (Maskless Aligners) - это высокопроизводительные системы прямого экспонирования специально разработанные для процессов совмещения и экспонирования без использования фотошаблонов (масок). Установки предлагают все возможности традиционной технологии совмещения и экспонирования для однослойных и многослойных применений и даже дают возможность преодолеть некоторые из ограничений фотошаблонной технологии. Установки MLA позволят избавиться от потребности в фотошаблонах и сокращает цикл производства, что существенно сокращает затраты на производство или исследования.


Области применения

Безмасковое непосредственное формирование изображения

Полутоновое экспонирование

MEMS, БиоMEMS

Полупроводниковые маски

Интегральная оптика

Производство ИС

Установка безмаскового совмещения и экспонирования MLA150

Новое поколение систем прямого экспонирования установка MLA150 объединяет в себе легкость использования и высокую точность совмещения и высокую производительность. Предназначена для решения задач, требующих высокой производительности - исследования, НИОКР, производство и др.

Высокая производительность, низкая стоимость использования.

Минимальный топологический размер 1,0 мкм.

Размер шаблонов или пластин до 8 х 8 дюймов.

Область экспонирования до 150 х 150 мм. или до Ø150 мм

Точность совмещения (100x100 мм² [3sigma, нм]) - 500 нм.

Время экспонирования области 100х100 мм² - 9 минут.

Обратное совмещение (BSA)- опция.

Возможность установки двух источников - 405 нм и 375 нм.

Настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования MLA100

Настольная модель безмаскового совмещения и экспонирования. Предназначена для решения задач, не требующих высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др.

Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.

Минимальный топологический размер 1,0 мкм.

Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.

Область экспонирования до 125 х 125 мм. или до Ø100 мм

Точность совмещения (50x50 мм² [3sigma, нм]) - 1000 нм.

Время экспонирования области 100х100 мм² - 200 минут.( около 3 часов)

Растровое (бинарное) экспонирование и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale Exposure Mode).


X
Запрос на оборудование
Заказать интересующее вас оборудование вы можете с помощью приведенной ниже формы.Специалисты ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД» свяжутся с вами в ближайшее время для уточнения вашего заказа и проконсультируют по всем интересующим вопросам.
ФИО *
Телефон *
Организация *
Какая продукция интересует?
Электронный адрес
Текст сообщения: *
Пройдите проверку:*