ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД»
комплексное оснащение предприятий

+ 7 495 564-82-37

info@eav.su
Отправить запрос на оборудование

Установки безмаскового совмещения и экспонирования (MLA)

Системы безмаскового совмещения и экспонирования (MLA - Maskless Aligners) Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) для прямого экспонирования и высокоточного совмещения без использования масок (фотошаблонов).

logo_slogan_kombi_6000.jpg

Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH (Германия) представила новую линейку установок для безмаскового совмещения и экспонирования (MLA - Maskless Aligners) .

Установки бесмаскового совмещения и экспонирования серии MLA (Maskless Aligners) - это высокопроизводительные системы прямого экспонирования специально разработанные для процессов совмещения и экспонирования без использования фотошаблонов (масок). Установки предлагают все возможности традиционной технологии совмещения и экспонирования для однослойных и многослойных применений и даже дают возможность преодолеть некоторые из ограничений фотошаблонной технологии. Установки MLA позволят избавиться от потребности в фотошаблонах и сокращает цикл производства, что существенно сокращает затраты на производство или исследования.


Области применения

Безмасковое непосредственное формирование изображения

Полутоновое экспонирование

MEMS, БиоMEMS

Полупроводниковые маски

Интегральная оптика

Производство ИС

Новое поколение систем прямого экспонирования установка MLA150 объединяет в себе легкость использования и высокую точность совмещения и высокую производительность. Предназначена для решения задач, требующих высокой производительности - исследования, НИОКР, производство и др.

Высокая производительность, низкая стоимость использования.

Минимальный топологический размер 1,0 мкм.

Размер шаблонов или пластин до 8 х 8 дюймов.

Область экспонирования до 150 х 150 мм. или до Ø150 мм

Точность совмещения (100x100 мм² [3sigma, нм]) - 500 нм.

Время экспонирования области 100х100 мм² - 9 минут.

Обратное совмещение (BSA)- опция.

Возможность установки двух источников - 405 нм и 375 нм.

Настольная модель безмаскового совмещения и экспонирования. Предназначена для решения задач, не требующих высокой производительности - лабораторные исследования, НИОКР, опытное производство и др.

Высокая производительность, малая занимаемая площадь, низкая стоимость использования.

Минимальный топологический размер 1,0 мкм.

Размер шаблонов или пластин до 6 х 6 дюймов.

Область экспонирования до 125 х 125 мм. или до Ø100 мм

Точность совмещения (50x50 мм² [3sigma, нм]) - 1000 нм.

Время экспонирования области 100х100 мм² - 200 минут.( около 3 часов)

Растровое (бинарное) экспонирование и 3D экспонирование для режима полутоновой шкалы экспонирования (Basic Gray Scale Exposure Mode).


X
Запрос на оборудование
Заказать интересующее вас оборудование вы можете с помощью приведенной ниже формы.Специалисты ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД» свяжутся с вами в ближайшее время для уточнения вашего заказа и проконсультируют по всем интересующим вопросам.
ФИО *
Телефон *
Организация *
Какая продукция интересует?
Электронный адрес
Текст сообщения: *
Пройдите проверку:*