ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД»
комплексное оснащение предприятий

+ 7 495 564-82-37

info@eav.su
Отправить запрос на оборудование

ICP-RIE установки плазменного травления SI 500 C


SI 500 C PTSA Plasma Cryo Etcher - установка криогенного травления в индуктивно-связанной плазме (ICP-RIE) производства SENTECH Instruments GmbH (Германия)
  • Превосходная однородность, прекрасная воспроизводимость при травлении
  • Высокая скорость травления
  • Низкий уровень повреждений
  • Высокое аспектное отношение
  • Очень гладкие стенки
  • PTSA - (P)lanar (T)riple (S)piral (A)ntenna источник ICP
  • Широкий диапазон температуры подложки: - 150°С до 400°С
  • Вакуумный загрузочный шлюз
  • Операции контролируются компьютером
  • Программное обеспечение SENTECH Software
  • Диаметр обрабатываемых пластин до 200мм.
  • Установка через стену (опция)
  • Интерферометр (определение скорости травления, окончания процесса - endpoint detection)

Система криогенного травления  SI 500 С PTSA ICP Cryo plasma etcher производстваSENTECH Instruments GmbH идеальный выбор для проведения высокоскоростного плазмо-химического травления кремния при создании MEMS структур и микрооптики.

Отличительными особенностями SI 500 С являются наличие источника индуктивно-связанной плазмы, крио-электрод (- 150°С до 400°С) подложки с охлаждением гелием и высокопроизводительная вакуумная система. Управление всеми важными параметрами оборудования осуществляется автоматически. Установка SI 500 была разработана для использования в пилотных производствах и НИОКР.

Отличительной особенностью системы SI500С является запатентованный источник индуктивно связанной плазмы ICP-PTSA 200 (плоская тройная спиральная антенна), специально подходящий для травления с низким повреждением структуры, электрод подложки с гелиевым охлаждением и динамическим контролем температуры для поддержания постоянной температуры независимо от мощности плазмы, вакуумная система позволяет обеспечивать высокую производительность требуемую для процессов травления и магнито-пневматический загрузочный шлюз для высочайшей надежности при загрузке/ выгрузке пластин. Все важнейшие параметры системы контролируются автоматически.


Конфигурация системы:

Крио-электрод (- 150°С до 400°С) для пластин диаметром до 200 мм или пластин меньшего диаметра, а также кусочков
Гелиевое охлаждение обратной стороны пластины, механически прижим
PTSA ICP источник (13,56 МГц, 1200 Вт.) с автоматической согласующей системой
Источник ВЧ смещения (13,56 МГц, 600 Вт.)
Магнетик для увеличения плотности плазмы
Система распыления реакционного газа втроенная в PTSA источник
Высокопроизводительная вакуумная система с контролем давления независимого от натекания газа
Вакуумный загрузочный шлюз
Динамический контроль температуры
Удаленный контроль
Управление под операционной системой Windows XP
Программное обеспечение SENTECH для управления процессами и всеми узлами системы


Опции:

Кварцевое окошечко для лазерного интерферометра (через источник PTSA)
Кассетная станция (cassette to cassette)
Установка через стену (Through-the-wall installation)
Интерферометр (определение скорости травления, окончания процесса - endpoint detection)


Похожая продукция


X
Запрос на оборудование
Заказать интересующее вас оборудование вы можете с помощью приведенной ниже формы.Специалисты ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД» свяжутся с вами в ближайшее время для уточнения вашего заказа и проконсультируют по всем интересующим вопросам.
ФИО *
Телефон *
Организация *
Какая продукция интересует?
Электронный адрес
Текст сообщения: *
Пройдите проверку:*