ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД»
комплексное оснащение предприятий

+ 7 495 564-82-37

info@eav.su
Отправить запрос на оборудование

Плазменное осаждение

Установки плазмо-химического осаждения диэлектриков SI 500 D

ICPECVD установка высокоскоростного плазмо-химического низкотемпературного осаждения высококачественных пленок (SiO2, Si3N4, SiOx, SiOxNy) в индуктивно связанной плазме:

ICPECVD осаждение SiO2, Si3N4, SiOx, SiNy, SiOxNy, a-Si

Вакуумный загрузочный шлюз

6 газовых линий

Обработка пластин диаметром до 200 мм

Температура подложки от КТ до 350 oC

Программное обеспечение SENTECH Software

Опции: LF генератор, OES, in-situ эллипсометр, лазерная интерферометрия

Установки плазмо-химического осаждения диэлектриков SI 500 PPD

PECVD установка плазмо-химического осаждения диэлектриков с вакуумным загрузочным шлюзом:

PECVD осаждение SiO2, Si3N4, SiOx, SiNy, SiOxNy, a-Si

Вакуумный загрузочный шлюз

6 газовых линий

Обработка пластин диаметром до 200 мм

Температура подложки от КТ до 350 oC

Программное обеспечение SENTECH Software

Опции: LF генератор, OES, in-situ эллипсометр, лазерная интерферометрия, источники для осаждения TEOS и др. жидких прекурсоров

Установки плазмо-химического осаждения диэлектриков Depolab 200

PECVD установка плазмо-химического осаждения диэлектриков без вакуумного загрузочного шлюза (open lid system)

PECVD осаждение SiO2, Si3N4, SiOx, SiNy, a-Si 6 газовых линий

Обработка пластин диаметром до 200 мм

Температура подложки до 400 oC

Сухая откачка

Программное обеспечение SENTECH Software

Опции: LF генератор, OES, in-situ эллипсометр


X
Запрос на оборудование
Заказать интересующее вас оборудование вы можете с помощью приведенной ниже формы.Специалисты ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД» свяжутся с вами в ближайшее время для уточнения вашего заказа и проконсультируют по всем интересующим вопросам.
ФИО *
Телефон *
Организация *
Какая продукция интересует?
Электронный адрес
Текст сообщения: *
Пройдите проверку:*