ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД»
комплексное оснащение предприятий

Отправить запрос на оборудование
Заказать звонок

JIB-4000 Focused Ion Beam Milling & Imaging System


Галлиевая ионная пушка

Ток пучка до 60 nA (30 kV)

Вытравливаемая область:

прямоугольник линия или точка

Обеспечивает нанесение (покрытие) на поверхность образца углерода, вольфрама, платины

Параметры объектодержателя:

Диаметр 28 mm высота 13 mm
или

Диаметр 50 mm высота 2 mm

X: ± 11mm Y: ± 15mm
Z: от 0.5mm до -23mm

Наклон: -5° до 60°

Вращение: 360°

РАЗРЕШЕНИЕ: 5 nm (на 30 kV)

Увеличение: от x200 до x300,000

                         x60 (обзорный)

Ускоряющее напряжение: От 1 … 30 kV (с шагом 5 kV)

Похожая продукция

Вы недавно смотрели: