ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД»
комплексное оснащение предприятий

+ 7 495 564-82-37

info@eav.su
Отправить запрос на оборудование

Полуавтоматическая (опция - полностью автоматическая) зондовая станция с высоким соотношением цена/качество с управлением с ПК (полуавтоматическое или полностью автоматическое управление) или ручным управлением для исследований и мелкосерийных производств с возможностью апгрейда.

DC и RF измерения, измерение емкости.

Полуавтоматическая зондовая станция с высоким соотношением цена/качество с управлением с ПК или ручным управлением для исследований и мелкосерийных производств с возможностью апгрейда.

DC и RF измерения, измерение емкости.

Бюджетная зондовая станция с ручным управлением для исследований и мелкосерийных производств с возможностью апгрейда. DC и RF измерения, измерение емкости.

Продолжительная высокотемпературная исплантация

Энергия ионов до 700 кэВ

Последовательная имплантация реализуемая с помощью Программного обеспечения

Компактные размеры

от R&D доя массового производоства

размер пластин: от 5 до 8 дюймов

Компактный дизайн

Превосходное исполнение параллельного пучка

применение для ультратонких пластин

IMX-3500 – это усовершенствованная установка для ионной имплантации, работающая на токе средней частоты, обладающая преимуществами простоты эксплуатации и компактности.

Установка была разработана на базе UP-150 для университетов, исследовательских учреждений и небольших производственных учреждений.

очистка пластин или подложек с нанесенным

или не нанесенным структурными элементами

очистка разделенных пластин на подложке

очистка покрытия ITO дисплея

очистка заготовки фотошаблона со слоем фоторезиста

очистка фотошаблона с покрытием

отдельно стоящая установка

защита от повреждений, очистка щеткой, ультразвуковая, химическая и вращающаяся сушка

12 дюймов - круглые, 9 дюймов - квадратные подложки

Микропроцессор для управления

модуль распределения химикатов

отдельная труба для кислот и растворителей

нагретый азот

Настольная установка

Очистка фотошаблонов или пластины без повреждений, ультразвуковая очистка и вращающаяся сушка

12 дюймов - круглые, 9 дюймов - квадратные подложки

Микропроцессор для управления

ИК лампа

Высокоскоростная промышленная система электронно-лучевой литографии JBX-9300FS предназначена для производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств.

Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 300 мм (12″) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 50 МГц, обладает высокой надежностью и производительностью.

Уникальная система позиционирования позволяет достигать высокой точности сшивки проэкспонированных областей даже на больших полях зрения.

JBX-6300FS – это промышленная система электронно-лучевой литографии, предназначенная для производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств.

Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 203,2 мм (8″) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 25 МГц и динамическим диапазоном 19 бит, обладает высокой надежностью и простотой управления.

JBX-5500FS – компактная система электронно-лучевой литографии, предназначенная для отработки технологий и малосерийного производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств.

Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 101,6 мм (4″) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 12 МГц и динамическим диапазоном 18 бит, обладает высокой надежностью и простотой управления.

В связи с ростом производства микросхем с высокими степенями интеграции, растет потребность мировой полупроводниковой промышленности в высокоточных высокопроизводительных системах производства фотошаблонов.

Компания JEOL, являеющаяся лидером по производству промышленных систем электронно-лучевой литографии, следуя новейшим мировым тенденциям, выпустила новую модель – JBX-3050MV.

Атомно-слоевое осаждение (ALD) - процесс осаждения очень тонких пленок с высокой однородностью и 3D структуру слой за слоем. Высокоточный контроль толщины и свойств получаемых пленок обеспечивается добавлением прекурсоров в вакуумную камеру отдельными циклами в процессе осаждения. Плазменно-стимулированное атомно-слоевое осаждение (PEALD - Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition) продвинутый метод расширяющий возможность ALD применением радикалов частиц газа вместо воды в качестве окислителя в процессе осаждения.

Установка травления в индуктивно-связанной плазме с гелиевым охлаждение обратной стороны подложки

Обработка пластин диаметром до 300 мм.

Источник ИСП (13,56 МГц, 1200 Вт)

Охлаждение гелием (He back side cooling)

До 16 газовых линий

Хлорная и фторная химия

Программное обеспечение SENTECH Software

OES и лазерная эллипсометрия и лазерная интерферометрия

Установка криогенного травления в индуктивно-связанной плазме с гелиевым охлаждение обратной стороны подложки

Обработка пластин диаметром до 200 мм.

Источник ИСП (13,56 МГц, 1200 Вт)

Охлаждение гелием (He back side cooling)

температура подложки -150 до 400 oC.

До 16 газовых линий

Хлорная и фторная химия

Программное обеспечение SENTECH Software

OES и лазерная эллипсометрия и лазерная интерферометрия

Обработка пластин диаметром до 200 мм.

Источник ИСП (13,56 МГц, 1200 Вт)

Охлаждение гелием (He back side cooling)

До 16 газовых линий

Хлорная и фторная химия

Программное обеспечение SENTECH Software

OES и лазерная эллипсометрия и лазерная интерферометрия

Установка реактивно-ионного травления (RIE) с гелиевым охлаждение обратной стороны подложки

Обработка пластин диаметром до 200 мм.

До 16 газовых линий

Хлорная и фторная химия

Программное обеспечение SENTECH Software

OES и лазерная эллипсометрия и лазерная интерферометрия

Обработка пластин диаметром до 200 мм.

До 16 газовых линий

Хлорная и фторная химия

Программное обеспечение SENTECH Software

OES и лазерная эллипсометрия и лазерная интерферометрия

С расширением популярности линейки установок Åmod система EVOVAC самая большая по размерам установка позволяющая иметь большую гибкость по сравнению с другими.

Улучшения в части большей двери и увеличения размера камеры позволяет устанавливать большие по размеру источники. Установка для исследований требующих установки большего количества различных источников в одной камере.

Системы линейки Åmod – установки сконфигурированы и сконструированы для напыления тонких пленок для удовлетворения самых продвинутых требований заказчика к процессам напыления и исследования тонких пленок.

Флагманская установка линейки моделей компании Angstrom Engineering полностью удовлетворяет требованиям заказчика и может даже быть составной частью кластерной системы.

Программное обеспечение производства Angstrom Engineering объединяет множество различных компонентов системы, выдавая самую важную информацию по щелчку мыши.

Система Nexdep может быть построена согласно требованиям заказчика компактного размера и по экономичной цене.

Система может быть адаптирована под любой процесс: резистивное термическое испарение, магнетронное распыление или электронно-лучевое напыление, ионное напыление.

Возможность установки нескольких разных процессов в одной камере.

Установки серии Covap II предлагают компактное, экономичное решение подходящее для проведения множества процессов осаждения.

Эта небольшого размера бюджетная установка позволит Вам легко найти место в Вашей лаборатории для ее установки.

Печь для процессов LPCVD для R&D и мелкосерийного производства. Установка доступна для обработки пластин до 4 дюймов (100 мм.)

Лабораторная печь для процессов SprayCVD на подложках диаметром до 2-ух дюймов. Осаждение и отжиг в одной камере.


X
Запрос на оборудование
Заказать интересующее вас оборудование вы можете с помощью приведенной ниже формы.Специалисты ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД» свяжутся с вами в ближайшее время для уточнения вашего заказа и проконсультируют по всем интересующим вопросам.
ФИО *
Телефон *
Организация *
Какая продукция интересует?
Электронный адрес
Текст сообщения: *
Пройдите проверку:*