ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД»
комплексное оснащение предприятий

Отправить запрос на оборудование
Заказать звонок

Настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования MLA100


MLA100 - настольная установка безмаскового совмещения и экспонирования
Разработанная с акцентом на высокую производительность по доступной цене, установка MLA100 является идеальным решением для литографии многих приложений R & D. Оптическая система предназначена для экспонирования структур размером до 1 мкм при скорости 50 мм² / мин по фоторезисту, без необходимости использования фотошаблонов. Устранение фотошаблонов в литографическом процессе повысит гибкость и значительно сократит производственный цикл. MLA100 управляется мастер-программой (GUI), которая помогает оператору в течение всего процесса совмещения и экспонирования: загрузка подложки, выбор дизайна и экспонирование. Установка занимает малую площадь и требует только подключения электропитание и сжатого воздуха. Применение установки MLA100: медицина. MEMS, микрооптика, Полупроводники, сенсоры, датчики, MOEMS, исследование материалов, нанотрубки, графены и др.

 Технические характеристики:
Минимальный топологический размер 1 мкм
Размер обрабатываемых подложек и пластин до 6 х 6 дюймов
Минимальный размер подложки 6 х 6 мм.
Размер поля экспонирования до 125 х 125 мм или до Ø100 мм;
Растровое экспонирование и 3D экспонирование (Gray Scale Exposure Mode -опция) до 128 уровней
Скорость экспонирования для области – 50 мм2/мин
Точность совмещения (50x50 мм² [3sigma, нм]) - 1000 нм.
Время экспонирования области 100х100 мм² - 200 минут.( около 3 часов)
Толщина подложки от 0,1 до 6 мм;
Габаритные размеры: 630 х 770 х 530 мм, вес 100 кг;
Стабильность поддержания температуры ±1° С;
Требуемый уровень влажности: 50% ± 10%;
Энергопотребление: 230 VAC ± 5 %, 50/60 Hz, 6 A.
Класс чистоты комнаты: ISO 6 (1000) или лучше.

 Характеристики MLA100
Режим работы
I
Минимальный размер элемента с использованием LED источника (390 нм), мкм и UV LED источника (375 нм)
1,0
Время экспонирования области 20х20 мм2 (мин).
8
Время экспонирования области 50х50 мм2 (мин).
50
Время экспонирования области 100х100 мм2 (мин).
200
Равномерность ширины линии (3σ), нм
200
Точность совмещения (50x50 мм² [3sigma, нм])
1000
Область письма (экспонирования), мм
125 х 125 до Ø100

Примеры:

mpg 501_application 1.jpeg mpg 501_application 2.jpg mpg 501_application 3.jpeg

СКАЧАТЬ БРОШЮРУ MLA100 В PDF


Видеопрезентация установки MLA



Похожая продукция

Вы недавно смотрели: