ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД»
комплексное оснащение предприятий

Отправить запрос на оборудование
Заказать звонок

Установки плазмо-химического осаждения диэлектриков Depolab 200


  • PECVD установка плазмо-химического осаждения диэлектриков без вакуумного загрузочного шлюза (open lid system)
  • PECVD осаждение SiO2, Si3N4, SiOx, SiNy, a-Si 6 газовых линий
  • Обработка пластин диаметром до 200 мм
  • Температура подложки до 400 oC
  • Сухая откачка
  • Программное обеспечение SENTECH Software
  • Опции: LF генератор, OES, in-situ эллипсометр

Похожая продукция

Вы недавно смотрели: