ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД»
комплексное оснащение предприятий

Отправить запрос на оборудование
Заказать звонок

Установка LPCVD LC100 / LC102


Бюджетная установка для процессов MOCVD для исследований и НИОКР на подложках диаметром до 2-ух дюймов. осаждение и отжиг можно производить в одной камере.


Применение:
  • LPCVD
  • Poly-Si, SiO2 ,Si3N4
  • Stress free Si3N4
  • Отжиг
  • Окисление
  • Диффузия и т.д.

Спецификация и описание:

- Установка LC-100 - установка для проведения процессов LPCVD на пластинах диаметром до 4-х дюймов для НИОКР и мелкосерийного производства.
- Установка применяется для процессов отжига и LPCVD. Реактор установки поддерживает загрузку до 50 пластин диаметром 100 мм в реактор. Труба (реактор) установки сделан из кварца и имеет фланец из нержавеющей стали. Кварцевые лодочки держатся на двух кварцевых стержнях прикрепленных к двери камеры. Нагреватели обеспечивают быстрый термическую реакцию и низкий уровень загрязнения.
- Температурный контроллер высокого качества контролирует температуру в каждой нагревательной зоне.
- Печь может быть сконфигурирована с двумя реакторами (LC102)

Исполнение и характеристики:
- Температурный диапазон: от 500°C до 1000°C (1150°C - опционально)
- Пластины до 4-x дюймов (100 мм.)
- Загрузка до 50 пластин (за процесс)
- Кварцевая труба с водоохлаждаемым фланцем из нержавеющей стали
- Резистивный нагрев
- Контроль температуры с термопарами
- Цифровой PID контроллер - 3 зоны
- Вакуум, среда:
  Продувочная газовая линия с игольчатым клапаном
  до 8 процессных газовых линий с цифровым MFC
  Вакуумные затворы и вакууметры
  Опционально роторный или сухой вак. насос
  Турбомолекулярный насос (опция)
- Управление с помощью ПК
- Подключение:
   3 х 400В+N+Gr или 3 х 220В+Gr, 50Гц
   Мощность 15кВт
   Вода: 2-6 Бар, 8 л/мин
   Сжатый воздух: 6 Бар
   Фитинги для газовых линий - 1/4 дюйма
Размеры: 700 х 1700 х 1500 (ШхГхВ), 600 кг.

Брошюра - установка LPCVD LC100...

Похожая продукция

Вы недавно смотрели: