ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД»
комплексное оснащение предприятий

Отправить запрос на оборудование
Заказать звонок

Осаждение SprayCVD, MOCVD, LPCVD

Печь для процессов LPCVD для R&D и мелкосерийного производства. Установка доступна для обработки пластин до 4 дюймов (100 мм.)

Лабораторная печь для процессов SprayCVD на подложках диаметром до 2-ух дюймов. Осаждение и отжиг в одной камере.