- Анализаторы химического состава металлов и сплавов
- Решения для 3D-печати и 3D-сканирования
- Вакуумное оборудование
- Водоподготовка
- Испытательное оборудование
- Коррозионное оборудование
- Оборудование для микроэлектроники
- Оборудование для лазерной маркировки изделий
- Оптическая и электронная микроскопия
- Перчаточные боксы
- Печи
- Гидравлические и механические прессы
- Технические газы
- Электронно-лучевая сварка
- Специальные предложения
- Главная
- Промышленное и лабораторное оборудование
- Оборудование для микроэлектроники
- Промышленное технологическое оборудование
- Контактная фотолитография
- Системы экспонирования (засветки),Exposure System
Системы экспонирования (засветки),Exposure System
Размер маски: до 7″ × 7″;
Размер подложек: 4-6″;
УФ источник света: 350 Вт;
Размер подложек: 4-6″;
УФ источник света: 350 Вт;
Похожая продукция
Вы недавно смотрели: