ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД»
комплексное оснащение предприятий

Отправить запрос на оборудование
Заказать звонок

Электронно-лучевая литография

Высокоскоростная промышленная система электронно-лучевой литографии JBX-9300FS предназначена для производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств.

Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 300 мм (12″) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 50 МГц, обладает высокой надежностью и производительностью.

Уникальная система позиционирования позволяет достигать высокой точности сшивки проэкспонированных областей даже на больших полях зрения.

JBX-6300FS – это промышленная система электронно-лучевой литографии, предназначенная для производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств.

Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 203,2 мм (8″) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 25 МГц и динамическим диапазоном 19 бит, обладает высокой надежностью и простотой управления.

JBX-5500FS – компактная система электронно-лучевой литографии, предназначенная для отработки технологий и малосерийного производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств.

Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 101,6 мм (4″) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 12 МГц и динамическим диапазоном 18 бит, обладает высокой надежностью и простотой управления.

В связи с ростом производства микросхем с высокими степенями интеграции, растет потребность мировой полупроводниковой промышленности в высокоточных высокопроизводительных системах производства фотошаблонов.

Компания JEOL, являеющаяся лидером по производству промышленных систем электронно-лучевой литографии, следуя новейшим мировым тенденциям, выпустила новую модель – JBX-3050MV.