ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД»
комплексное оснащение предприятий

+ 7 495 564-82-37

info@eav.su
Отправить запрос на оборудование

Установка элеткронно-лучевой литографии JEOL JBX-9300FS


Высокоскоростная промышленная система электронно-лучевой литографии  JBX-9300FS предназначена для  производства субмикронных и наноразмерных полупроводниковых устройств.  Система может работать с пластинами из различных материалов диаметром до 300 мм (12″) включительно, позволяет генерировать изображения с частотой 50 МГц, обладает высокой надежностью и производительностью. Уникальная система позиционирования позволяет достигать высокой точности сшивки проэкспонированных областей даже на больших полях зрения.

Основные технические характеристики:


Форма пучка
круглое пятно
Сканирование
Векторное
Ускоряющее напряжение
50кВ/100кВ
Скорость сканирования
50МГц
Минимальная ширина линии
не более 20 нм
Максимальный диаметр подложки
300 мм (12 дюймов)
Погрешность сшивки рабочих областей
не более 20нм на поле зрения 1 мм

Другие системы электронно-лучевой литографии JEOL:


Электронная пушка Ускоряющее наряжение Минимальный размер пучка Размер пластин Форма пучка Развертка
JBX-3050MV LaB6 single crystal 50 кВ.

6 дюймов
(маски)
изменяемая Векторное сканирование
JBX-5500FS ZrO/W
(типа Шотки)
50 кВ / 25 кВ 2 нм. пластины 100 мм пятно Векторное сканирование
JBX-6300FS ZrO/W (Schottky) 100 кВ / 50 кВ / 25 кВ 2 нм. пластины до 200 мм. пятно Векторное сканирование
JBX-9300FS ZrO/W (Schottky) 100 кВ / 50 кВ 4нм (100 кВ)
7нм (50 кВ)
пластины до 300 мм. пятно Векторное сканирование

Похожая продукция


X
Запрос на оборудование
Заказать интересующее вас оборудование вы можете с помощью приведенной ниже формы.Специалисты ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД» свяжутся с вами в ближайшее время для уточнения вашего заказа и проконсультируют по всем интересующим вопросам.
ФИО *
Телефон *
Организация *
Какая продукция интересует?
Электронный адрес
Текст сообщения: *
Пройдите проверку:*