ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД»
комплексное оснащение предприятий

+ 7 495 564-82-37

info@eav.su
Отправить запрос на оборудование

Атомно слоевое осаждение - ALD

Метод атомно-слоевого осаждения (АСО/ALD) заполучил огромное признание как реальный технологический процесс, который обеспечивает прирост ультратонких пленок высочайшего качества на большие подложки. Главной особенностью данного метода заключается в формировании атомарного или молекулярного монослоя без появления трехмерных зародышей. Попеременная подача газообразных реагентов осуществляется к подложке таким образом, что химические реакции способствующие к приросту пленок протекают исключительно в хемосорбированных слоях, исключая каких-либо реакций в газовой фазе. Выращивание пленки происходит из скоротечных подач прекурсора (исходного материала) с дальнейшими продуваниями инертным газом. Фаза двухкомпонентной процедуры осаждения атомных слоев включает кратковременную подачу первого прекурсора, продува инертным газом, с последующей кратковременной подачей второго прекурсора и продува. При этом толщина самой плёнки достаточно точно и легко задается под строгим контролем количеством циклов осаждения.


Применение атомно-слоевого осаждения исключительно в хемисорбированных слоях ведет к уникальным результатам по конформности и воспроизводимости формируемых слоев, количеству дефектов, однородности по толщине и плотности, стехиометричности состава. Используя послойный механизм осаждения можно сформировать беспористые высококонформные тонкопленочные покрытия для создания объектов сложной формы. При этом покрытие сложной формы объекта осуществляется равномерно со всех сторон.


Основные особенности атомно-слоевого осаждения:

  • Послойный рост пленки - самоограничивающийся
  • Осаждение пленки - высококонформное

  • Данные особенности пользуются огромным спросом в МЭМС технологиях, полупроводниковой инженерии и других применениях.

Компания «ЭНЕРГОАВАНГАРД» специализируется на поставках установок атомно-слоевого осаждения от производителя, что позволяет купить качественное оборудование по доступной цене.

Атомно-слоевое осаждение (ALD) - процесс осаждения очень тонких пленок с высокой однородностью и 3D структуру слой за слоем. Высокоточный контроль толщины и свойств получаемых пленок обеспечивается добавлением прекурсоров в вакуумную камеру отдельными циклами в процессе осаждения. Плазменно-стимулированное атомно-слоевое осаждение (PEALD - Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition) продвинутый метод расширяющий возможность ALD применением радикалов частиц газа вместо воды в качестве окислителя в процессе осаждения.


X
Запрос на оборудование
Заказать интересующее вас оборудование вы можете с помощью приведенной ниже формы.Специалисты ООО «ЭНЕРГОАВАНГАРД» свяжутся с вами в ближайшее время для уточнения вашего заказа и проконсультируют по всем интересующим вопросам.
ФИО *
Телефон *
Организация *
Какая продукция интересует?
Электронный адрес
Текст сообщения: *
Пройдите проверку:*